DEPOSITION MASK AND METHODS OF MANUFACTURING AND USING A DEPOSITION MASK

Generally, examples described herein relate to deposition masks and methods of manufacturing and using such deposition masks. An example includes a method for forming a deposition mask. A mask layer is deposited on a substrate. Mask openings are patterned through the mask layer. A central portion of...

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Hauptverfasser: MORAES, Kevin, LERNER, Alexander N
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Generally, examples described herein relate to deposition masks and methods of manufacturing and using such deposition masks. An example includes a method for forming a deposition mask. A mask layer is deposited on a substrate. Mask openings are patterned through the mask layer. A central portion of the substrate is removed to define a substrate opening through a periphery portion of the substrate. The mask layer with the mask openings through the mask layer extending across the substrate opening. De manière générale, des exemples décrits dans la présente invention concernent des masques de dépôt et des procédés de fabrication et d'utilisation de tels masques de dépôt. Un exemple comprend un procédé de formation d'un masque de dépôt. Une couche de masque est déposée sur un substrat. Des ouvertures de masque sont formées par motifs à travers la couche de masque. Une partie centrale du substrat est éliminée pour définir une ouverture de substrat à travers une partie périphérique du substrat. La couche de masque ayant les ouvertures de masque à travers la couche de masque s'étend à travers l'ouverture de substrat.