METHOD FOR CONTROLLING A LITHOGRAPHIC SYSTEM

A lithographic system comprises a radiation source and a lithographic apparatus. The radiation source provides radiation to the lithographic apparatus. The lithographic apparatus uses the radiation for imaging a pattern onto multiple target areas on a layer of photo-resist on a semiconductor substra...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	NOORDMAN, Oscar, VAN SCHOOT, Jan, VAN DEN BRINK, Marinus, KEMPEN, Antonius
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A lithographic system comprises a radiation source and a lithographic apparatus. The radiation source provides radiation to the lithographic apparatus. The lithographic apparatus uses the radiation for imaging a pattern onto multiple target areas on a layer of photo-resist on a semiconductor substrate. The imaging requires a pre-determined dose of radiation. The system is controlled so as to set a level of a power of the radiation in dependence on a magnitude of the pre-determined dose. La présente invention concerne un système de lithographie, comprenant une source de rayonnement et un appareil de lithographie. La source de rayonnement fournit un rayonnement à l'appareil de lithographie. L'appareil de lithographie utilise le rayonnement pour imager un motif sur de multiples zones cibles sur une couche de résine photo-sensible sur un substrat semi-conducteur. L'imagerie nécessite une dose de rayonnement prédéfinie. Le système est commandé de façon à régler un niveau d'une puissance du rayonnement en fonction d'une grandeur de la dose prédéfinie.