SUBSTRATE TREATMENT BRUSH CLEANING METHOD AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE

The substrate treatment brush cleaning method according to the present disclosure stores a heated cleaning liquid in a cleaning liquid storage tank (39) and cleans a contact member by immersing the contact member in the heated cleaning liquid before bringing the contact member of a substrate treatment brush (29, 50) into contact with a substrate in a substrate treatment device equipped with a substrate-holding unit for holding a substrate, a substrate treatment brush (29, 50) having a contact member for being brought into contact with a substrate to treat the substrate, an arm on which the substrate treatment brush (29, 50) can be mounted, a drive unit for moving the substrate treatment brush (29, 50) mounted on the arm between a treatment position for treating the substrate held by the substrate-holding unit and a standby position away from the treatment position, and a cleaning liquid storage tank (39) for storing cleaning liquid provided at the standby position. La présente invention concerne un procédé de nettoyage de brosse de traitement de substrat stockant un liquide de nettoyage chauffé dans un réservoir de stockage de liquide de nettoyage (39) et nettoie un élément de contact par immersion de l'élément de contact dans le liquide de nettoyage chauffé avant d'amener l'élément de contact d'une brosse de traitement de substrat (29, 50) en contact avec un substrat dans un dispositif de traitement de substrat équipé d'une unité de maintien de substrat pour maintenir un substrat, d'une brosse de traitement de substrat (29, 50) ayant un élément de contact pour être mis en contact avec un substrat pour traiter le substrat, un bras sur lequel la brosse de traitement de substrat (29, 50) peut être montée, une unité d'entraînement pour déplacer la brosse de traitement de substrat (29, 50) montée sur le bras entre une position de traitement pour traiter le substrat maintenu par l'unité de maintien de substrat et une position de veille à l'écart de la position de traitement, et un réservoir de stockage de liquide de nettoyage (39) pour stocker le liquide de nettoyage fourni en position de veille. 本開示による基板処理ブラシの洗浄方法は、基板を保持する基板保持部と、基板に接触させて基板を処理する接触部材を有する基板処理ブラシ（２９，５０）と、基板処理ブラシ（２９，５０）を装着可能なアームと、基板保持部に保持された基板を処理する処理位置と処理位置から離れた待機位置との間において、アームに装着された基板処理ブラシ（２９，５０）を移動させる駆動部と、待機位置に設けられ、洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽（３９）と、を備えた基板処理装置において、基板処理ブラシ（２９，５０）の接触部材を基板に接触させる前に、洗浄液貯留槽（３９）に加熱された洗浄液を貯留させ、加熱された洗浄液に接触部材を浸漬させることよって接触部材を洗浄する。