GLASS ETCHING SOLUTION AND GLASS SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD
[Problem] To provide a liquid crystal panel manufacturing method capable of minimizing the effects of side etching that accompany etching processes. [Solution] A glass etching solution according to the present invention is a glass etching solution for etching glass, said solution including at least...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | [Problem] To provide a liquid crystal panel manufacturing method capable of minimizing the effects of side etching that accompany etching processes. [Solution] A glass etching solution according to the present invention is a glass etching solution for etching glass, said solution including at least an etching inhibiting substance which lowers the etching speed of glass and contains at least an alkali or a fluorine complex agent. The etching inhibiting substance preferably generates a reaction product which inhibits an etching reaction by attaching to a modified section which has been modified so as to make glass more readily etchable.
Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de fabrication d'un panneau à cristaux liquides permettant de réduire au minimum les effets de gravure latérale qui accompagnent des procédés de gravure. À cet effet, l'invention porte sur une solution de gravure de verre qui est une solution de gravure de verre pour graver du verre, ladite solution comprenant au moins une substance d'inhibition de gravure qui abaisse la vitesse de gravure du verre et qui contient au moins un alcali ou un agent complexe de fluor. La substance d'inhibition de gravure génère de préférence un produit de réaction qui inhibe une réaction de gravure par fixation à une section modifiée qui a été modifiée de façon à rendre le verre plus facile à graver.
【課題】エッチング処理に伴うサイドエッチングの影響を最小限に抑制することが可能な液晶パネル製造方法を提供する。 【解決手段】本願発明に係るガラス用エッチング液は、ガラスをエッチングするためのガラス用エッチング液であって、ガラスに対するエッチング速度を低下させるエッチング阻害物質であって、アルカリまたはフッ素錯化剤のいずれか一方を少なくとも含有するエッチング阻害物質を少なくとも含む。エッチング阻害物質は、ガラスにおけるエッチングされやすいように改質された改質部に付着することによってエッチング反応を阻害する反応生成物を発生させるものが好ましい。 |
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