DYNAMIC COOLING CONTROL FOR THERMAL STABILIZATION FOR LITHOGRAPHY SYSTEM

Embodiments described herein provide a system, a software application, and methods of a lithography process that provide at least one of the ability to decrease the stabilization time and write an exposure pattern into a photoresist on a substrate compensating for the change in the total pitch over...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JOHNSTON, Benjamin M, YOO, Jae Myung, MANENS, Antoine P, CORRIVEAU, David Michael, LEE, Cheuk Ming, TAO, WeiMin
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING ELECTROGRAPHY FREQUENCY-CHANGING HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR NON-LINEAR OPTICS OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS OPTICAL LOGIC ELEMENTS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Embodiments described herein provide a system, a software application, and methods of a lithography process that provide at least one of the ability to decrease the stabilization time and write an exposure pattern into a photoresist on a substrate compensating for the change in the total pitch over a stabilization time. One embodiment of the system includes a slab, a stage disposed over the slab, a pair of supports disposed on the slab, a processing apparatus, and a chiller system. The pair of supports support a pair of tracks and the stage is configured to move along the pair of tracks. The processing apparatus has an apparatus support coupled to the slab and a processing unit supported by the apparatus support. The processing unit has a plurality of image projection systems. The chiller system has at least one fluid channel disposed in each track of the pair of tracks. Des modes de réalisation de la présente invention concernent un système, une application logicielle et des procédés d'un processus de lithographie qui fournissent au moins une caractéristique entre la capacité à diminuer le temps de stabilisation et la capacité à inscrire un motif d'exposition dans une résine photosensible sur un substrat compensant le changement du pas total pendant un temps de stabilisation. Un mode de réalisation du système comprend une dalle, une platine porte-objet disposée sur la dalle, une paire de supports disposés sur la dalle, un appareil de traitement et un système de refroidisseur. La paire de supports supporte une paire de pistes et la platine porte-objet est conçue pour se déplacer le long de la paire de pistes. L'appareil de traitement comprend un support d'appareil couplé à la dalle et une unité de traitement supportée par le support d'appareil. L'unité de traitement comporte une pluralité de systèmes de projection d'image. Le système de refroidisseur comprend au moins un canal de fluide disposé dans chaque piste de la paire de pistes.