SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM, AND METHOD FOR ALIGNING PLACEMENT TABLE

[Problem] To provide a substrate treatment device that allows the position of a placement table to be adjusted relatively easily. [Solution] A substrate treatment device according to the present invention is provided with: a plurality of placement tables on which respective substrates to be treated...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KOBAYASHI, Tamihiro, YAMAGISHI, Takayuki
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:[Problem] To provide a substrate treatment device that allows the position of a placement table to be adjusted relatively easily. [Solution] A substrate treatment device according to the present invention is provided with: a plurality of placement tables on which respective substrates to be treated are placed; a plurality of columns for supporting the respective placement tables from the lower surface sides; and a common base part for supporting the plurality of columns from the basal end sides. A position adjusting mechanism is provided between the base part and each of the columns and has: a fixing member on the base part side; a position adjusting member that is disposed above the fixing member and that adjusts the position of the placement table by positioning the basal end section of the column; and a plurality of gap-height adjusting parts that are provided at at least three respective locations surrounding the periphery of the column and that attach the position adjusting member to the fixing member in a state in which the height of a gap between the fixing member and the position adjusting member can be adjusted. At least one position adjusting mechanism of the plurality of position adjusting mechanisms has, at one location, a fixing mounting part that attaches the position adjusting member to the fixing member in a state in which the height of the gap is fixed. Le problème décrit par la présente invention est de fournir un dispositif de traitement de substrat qui permet à la position d'une table de placement d'être réglée relativement facilement. La solution selon l'invention concerne un dispositif de traitement de substrat comprenant : une pluralité de tables de placement sur lesquelles des substrats respectifs à traiter sont placés ; une pluralité de colonnes pour supporter les tables de placement respectives à partir des côtés de surface inférieure ; et une partie de base commune pour supporter la pluralité de colonnes à partir des côtés d'extrémité de base. Un mécanisme de réglage de position est disposé entre la partie de base et chacune des colonnes et comporte : un élément de fixation sur le côté de la partie de base ; un élément de réglage de position qui est disposé au-dessus de l'élément de fixation et qui règle la position de la table de placement en positionnant la section d'extrémité de base de la colonne ; et une pluralité de parties de réglage de hauteur d'espace qui sont disposées au niveau d'au moins trois emplacements respectifs