SYSTEMS FOR TREATING A METAL SUBSTRATE

Disclosed herein are systems for treating a substrate. The system may include a cleaner composition, a deoxidizing composition comprising a Group IVA metal and/or a Group IVB metal and free fluoride and having a pH of 1.0 to 3.0, and/or a seal composition. The system may also include a coating compo...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LEE, Se Ryeon, NAKAJIMA, Masayuki, POLLUM, JR, LEMON, Steven J, BROWN-TSENG, Elizabeth S, POWELL, Adam B, BOWLES, Steven E, MAKSIMOVIC, Ljiljana, REARICK, Brian K, MILLERO, JR, KRILEY, Joseph P, APPADOO, Visham, PAGNOTTI, Loubna, FORTMAN, David J
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed herein are systems for treating a substrate. The system may include a cleaner composition, a deoxidizing composition comprising a Group IVA metal and/or a Group IVB metal and free fluoride and having a pH of 1.0 to 3.0, and/or a seal composition. The system may also include a coating composition. The cleaner composition, deoxidizing composition, and/or seal composition may comprise a homopolymer or a copolymer comprising a phosphorous-containing monomeric subunit m1. Also disclosed is a deoxidizing composition comprising a Group IVA metal and a Group IVB metal and free fluoride and having a pH of 1.0 to 3.0. Also disclosed are methods of treating a substrate. Also disclosed are treated substrates. La présente invention concerne des systèmes pour le traitement d'un substrat. Le système peut comprendre une composition d'agent nettoyant, une composition désoxydante comprenant un métal du groupe IVA et/ou un métal du groupe IVB et du fluorure libre et présentant un pH de 1,0 à 3,0, et/ou une composition de scellement. Le système peut également comprendre une composition de revêtement. La composition d'agent nettoyant, la composition désoxydante et/ou la composition de scellement peuvent comprendre un homopolymère ou un copolymère comprenant une sous-unité monomère m1 contenant du phosphore. L'invention concerne également une composition désoxydante comprenant un métal du groupe IVA et un métal du groupe IVB, ainsi que du fluorure libre et présentant un pH de 1,0 à 3,0. L'invention concerne également des procédés de traitement d'un substrat. L'invention concerne également des substrats traités.