PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY HAVING AN OPTICAL ARRANGEMENT

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleitertechnik mit einer optischen Anordnung (30), umfassend ein optisches Element (31) mit einer optisch aktiven Fläche (32) und einen Aktuator (34), wobei die optische Anordnung (30) dazu eingerichtet ist, die optisch aktive F...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DJURIC-RISSNER, Ferdinand, FINGERHUTH, Judith, GRAF, Peter, SCHNEIDER, Sonja, FINKEN, Reimar, WABRA, Norbert
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleitertechnik mit einer optischen Anordnung (30), umfassend ein optisches Element (31) mit einer optisch aktiven Fläche (32) und einen Aktuator (34), wobei die optische Anordnung (30) dazu eingerichtet ist, die optisch aktive Fläche (32) zu deformieren und wobei der Aktuator (34) im optischen Element (31) eingelassen ist. Dabei ist der Aktuator (34) außerhalb der optisch aktiven Fläche (32) und außerhalb des hinter der optisch aktiven Fläche liegenden Bereiches angeordnet. The invention relates to a projection exposure system (1) for the semiconductor technology having an optical arrangement (30), comprising an optical element (31) having an optically active surface (32) and an actuator (34), the optical arrangement (30) being configured to deform the optically active surface (32) and the actuator (34) being recessed in the optical element (31). The actuator (34) is arranged outside the optically active surface (32) and outside the region located behind the optically active surface. L'invention concerne un système d'exposition et de projection (1), destiné à la technologie des semi-conducteurs, qui est pourvu d'un ensemble optique (30) comprenant un élément optique (31) pourvu d'une surface optiquement active (32) et un actionneur (34), l'ensemble optique (30) étant conçu pour déformer la surface optiquement active (32) et l'actionneur (34) étant incorporé dans l'élément optique (31). L'actionneur (34) est disposé à l'extérieur de la surface optiquement active (32) et à l'extérieur de la zone située derrière la surface optiquement active.