MONITORING PROCESS WALL DEPOSITIONS AND COATINGS

Various embodiments include apparatuses and methods using the apparatus. In one embodiment, the apparatus includes an adsorption sensor having a light source, and at least a first transparent-window and a second transparent-window mounted on substantially opposing walls in a process chamber through which radiation from the light source traverses. The first windows are selected to be substantially transparent at one or more wavelengths emitted by the light source. A light-source detector is configured to receive radiation transmitted through the second transparent-window and provide an intensity level of the received radiation that includes transmission losses through the first transparent-window and the second transparent-window due to adsorbed films on the windows. Other apparatuses and systems are disclosed. Selon certains modes de réalisation, la présente invention concerne des appareils et des procédés utilisant les appareils. Dans un mode de réalisation, l'appareil comprend un capteur d'adsorption muni d'une source de lumière, et au moins une première fenêtre transparente et une seconde fenêtre transparente montées sur des parois sensiblement opposées dans une chambre de traitement traversée par le rayonnement de la source de lumière. Les premières fenêtres sont sélectionnées pour être sensiblement transparentes à une ou plusieurs longueurs d'onde émises par la source de lumière. Un détecteur de source de lumière est configuré pour recevoir un rayonnement transmis à travers la seconde fenêtre transparente et fournir un degré d'intensité du rayonnement reçu qui comprend des pertes de transmission à travers la première fenêtre transparente et la seconde fenêtre transparente en raison des films adsorbés sur les fenêtres. L'invention décrit également d'autres appareils et systèmes.