APPARATUS FOR CONTROLLING INTRODUCTION OF EUV TARGET MATERIAL INTO AN EUV CHAMBER

Apparatus for controlling introduction of EUV target material into an EUV chamber in which a flow restrictor orifice is placed in a flow path of target material through the droplet generator, for example, at a position upstream of a filter within the droplet generator. Also, a liquid tin sensor, for example, a conduction probe or electrical load detector, which may be located in the volume of a droplet generator heater blocks. The flow restrictor can be configured to serve additionally as a seal, for example, for the filter. Thus, the flow restrictor can be configured as a metal disk that can also serve as a sealing gasket. For example, the metal may be unannealed tantalum, tantalum-tungsten alloy, annealed molybdenum, molybdenumrhenium alloy, or annealed rhenium. Appareil pour commander l'introduction d'un matériau cible EUV dans une chambre EUV dans laquelle un orifice de limiteur de débit est placé dans un trajet d'écoulement de matériau cible à travers le générateur de gouttelettes, par exemple, à une position en amont d'un filtre à l'intérieur du générateur de gouttelettes. En outre, l'invention porte sur un capteur d'étain liquide, par exemple, une sonde de conduction ou un détecteur de charge électrique, pouvant être situé dans le volume des blocs chauffants d'un générateur de gouttelettes. Le limiteur de débit peut être configuré pour servir de joint, par exemple, pour le filtre. Ainsi, le limiteur de débit peut se présenter sous la forme d'un disque métallique pouvant également servir de joint d'étanchéité. Par exemple, le métal peut être un tantale non recuit, un alliage de tantale-tungstène, un molybdène recuit, un alliage de molybdène-rhénium ou du rhénium recuit.