SYSTEMS AND METHODS FOR FOCUSING CHARGED-PARTICLE BEAMS

Systems and methods for irradiating a sample with a charged-particle beam are disclosed. The charged-particle beam system may comprise a stage configured to hold a sample and is movable in at least one of X-Y-Z axes. The charged-particle beam system may further comprise a position sensing system to...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DENG, Nianpei, LIU, Yu, YIN, Xuehui, DONG, Zhonghua, PU, Lingling, LUO, Ying, DI, Long, FEI, Ruochong, FANG, Wei, ZHU, Bohang
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Systems and methods for irradiating a sample with a charged-particle beam are disclosed. The charged-particle beam system may comprise a stage configured to hold a sample and is movable in at least one of X-Y-Z axes. The charged-particle beam system may further comprise a position sensing system to determine a lateral and vertical displacement of the stage, and a beam deflection controller configured to apply a first signal to deflect a primary charged-particle beam incident on the sample to at least partly compensate for the lateral displacement, and to apply a second signal to adjust a focus of the deflected charged-particle beam incident on the sample to at least partly compensate for the vertical displacement of the stage. The first and second signals may comprise an electrical signal having a high bandwidth in a range of 10 k Hz to 50 k Hz, and 50 k Hz to 200 k Hz, respectively. La présente invention concerne des systèmes et des procédés d'exposition d'un échantillon à un faisceau de particules chargées. Le système de faisceau de particules chargées peut comprendre une platine conçue pour maintenir un échantillon et est mobile suivant au moins un axe parmi des axes X-Y-Z. Le système de faisceau de particules chargées peut en outre comprendre un système de détection de position servant à déterminer un déplacement latéral et vertical de la platine, et un dispositif de commande de déviation de faisceau conçu pour appliquer un premier signal servant à dévier un faisceau de particules chargées primaire incident sur l'échantillon pour compenser au moins partiellement le déplacement latéral, et pour appliquer un second signal servant à régler un foyer du faisceau de particules chargées dévié incident sur l'échantillon pour compenser au moins partiellement le déplacement vertical de la platine. Les premier et second signaux peuvent comprendre un signal électrique ayant une grande largeur de bande s'inscrivant dans une plage respectivement de 10 kHz à 50 kHz et de 50 kHz à 200 kHz.