METHOD FOR CONTROLLING A MANUFACTURING PROCESS AND ASSOCIATED APPARATUSES

Disclosed is a method for determining a correction relating to a performance metric of a semiconductor manufacturing process, the method comprising: obtaining a first set of pre-process metrology data; processing the first set of pre-process metrology data by decomposing the pre-process metrology data into one or more components which: a) correlate to the performance metric; or b) are at least partially correctable by a control process which is part of the semiconductor manufacturing process; and applying a trained model to the processed first set of pre-process metrology data to determine the correction for said semiconductor manufacturing process. L'invention concerne un procédé de détermination d'une correction concernant une mesure de performance d'un processus de fabrication de semi-conducteur, le procédé consistant à : obtenir un premier ensemble de données de métrologie de prétraitement ; traiter le premier ensemble de données de métrologie de prétraitement en décomposant les données de métrologie de prétraitement en un ou plusieurs composants qui : a) sont en corrélation avec la métrique de performance ; ou b) sont au moins partiellement corrigibles par un processus de commande qui fait partie du processus de fabrication de semi-conducteur ; et appliquer un modèle entraîné au premier ensemble traité de données de métrologie de prétraitement pour déterminer la correction pour ledit processus de fabrication de semi-conducteur.