PROCESSING SYSTEMS AND PLATFORMS FOR ROUGHNESS REDUCTION OF MATERIALS USING ILLUMINATED ETCH SOLUTIONS

Processing system and platform embodiments are described that illuminate etch solutions to provide controlled etching of materials. The processing systems and platforms deposit a liquid etch solution over a material to be etched and illuminate the liquid etch solution to adjust levels of reactants. The liquid etch solution has a first level of reactants, and the illumination causes the liquid etch solution to have a second level of reactants that is different than the first level. The material is modified with the illuminated etch solution, and the modified material is removed. The delivery, exposing, and removing can be repeated to provide a cyclic etch. Further, oxidation and dissolution can occur simultaneously or can occur in multiple steps. The material being etched can be a polycrystalline material, a polycrystalline metal, and/or other material. One liquid etch solution can include hydrogen peroxide that is illuminated to form hydroxyl radicals. Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne des systèmes et plateformes de traitement qui éclairent des solutions de gravure afin d'obtenir une gravure régulée de matériaux. Les systèmes et les plateformes de traitement déposent une solution de gravure liquide sur un matériau à graver et éclairent la solution de gravure liquide pour ajuster les niveaux de réactifs. La solution de gravure liquide possède un premier niveau de réactifs, et l'éclairage amène la solution de gravure liquide à avoir un second niveau de réactifs différent du premier niveau. Le matériau est modifié par la solution de gravure éclairée, et le matériau modifié est retiré. Le dépôt, l'exposition et le retrait peuvent être répétés, fournissant ainsi un cycle de gravure. En outre, l'oxydation et la dissolution peuvent se produire simultanément ou en plusieurs étapes. Le matériau qui est gravé peut être un matériau polycristallin, un métal polycristallin, et/ou un autre matériau. Une solution de gravure liquide peut comprendre du peroxyde d'hydrogène qui est éclairé pour former des radicaux hydroxyle.