METHOD FOR FORMING NANOSTRUCTURES ON A SURFACE AND WAFER INSPECTION SYSTEM

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden von Nanostrukturen (5) an einer freiliegenden Oberfläche (3) eines kristallinen, insbesondere ionischen Substrats (1) zur Transmission von Strahlung im FUV/VUV-Wellenlängenbereich, umfassend: Bereitstellen einer freiliegenden Oberfläche (3) des Substrats (1), die nicht entlang einer Gitterebene mit minimaler Oberflächenenergie orientiert ist, sowie Einbringen eines Energieeintrags (E) in die freiliegende Oberfläche (3) zur Umlagerung der freiliegenden Oberfläche (3) unter Bildung der Nanostrukturen (5), wobei der Energieeintrag (E) durch Bestrahlen der freiliegenden Oberfläche (3) mit elektromagnetischer Strahlung (4) erzeugt wird. Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element, welches eine Oberfläche (3) aufweist, an der Nanostrukturen (5) gebildet sind, sowie ein Wafer-Inspektionssystem. The invention relates to a method for forming nanostructures (5) on an exposed surface (3) of a crystalline, particularly ionic substrate (1) for transmission of radiation in the FUV/VUV wavelength range, comprising: providing an exposed surface (3) of the substrate (1), which is not oriented along a lattice plane having minimal surface energy, and introducing an energy input (E) into the exposed surface (3) in order to rearrange the exposed surface (3), forming the nanostructures (5), wherein the energy input (E) is generated by irradiating the exposed surface (3) with electromagnetic radiation (4). The invention also relates to an optical element which has a surface (3), on which the nanostructures (5) are formed, and a wafer inspection system. L'invention concerne un procédé de formation de nanostructures (5) sur une surface dégagée (3) d'un substrat (1) cristallin, en particulier ionique, pour assurer la transmission de rayonnements se situant dans la plage de longueurs d'ondes de l'ordre de l'ultraviolet lointain/de l'ultraviolet du vide, ledit procédé comprenant : disposer d'une surface dégagée (3) du substrat (1), qui n'est pas orientée le long d'un plan réticulaire à énergie de surface minimale, et injecter un apport d'énergie (E) dans la surface dégagée (3) de manière à réarranger la surface dégagée (3) de sorte à former les nanostructures (5), l'apport d'énergie (E ) étant produit par exposition de la surface dégagée (3) à un rayonnement électromagnétique (4). L'invention concerne également un élément optique qui présente une surface (3) sur laquelle sont formées des nanostructures (5), ainsi qu'un système d'i