GAS NOZZLE, METHOD FOR PRODUCING GAS NOZZLE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
The gas nozzle of the present disclosure comprises a tube-shaped feed hole for guiding a gas and a spray hole connected to the feed hole. The gas nozzle is for spraying the gas from the spray hole and is formed from a ceramic whose primary component is: a rare earth element oxide; fluoride or acid f...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | The gas nozzle of the present disclosure comprises a tube-shaped feed hole for guiding a gas and a spray hole connected to the feed hole. The gas nozzle is for spraying the gas from the spray hole and is formed from a ceramic whose primary component is: a rare earth element oxide; fluoride or acid fluoride; or an yttrium aluminum compound oxide. The maximum value of the arithmetic mean roughness Ra of the inner circumferential surface forming the feed hole is 0.01μm-0.14μm.
La buse à gaz de la présente invention comprend un trou d'alimentation en forme de tube pour guider un gaz et un trou de pulvérisation relié au trou d'alimentation. La buse à gaz est destinée à pulvériser le gaz à partir du trou de pulvérisation et est formée à partir d'une céramique dont le composant primaire est : un oxyde d'élément de terre rare; du fluorure ou du fluorure d'acide; ou un oxyde de composé d'yttrium-aluminium. La valeur maximale de la rugosité moyenne arithmétique Ra de la surface circonférentielle interne formant le trou d'alimentation est de 0,01µm à 0,14µm.
本開示のガスノズルは、ガスを案内する管状の供給孔と、該供給孔に接続する噴射孔とを備え、該噴射孔より前記ガスを噴射する、希土類元素の酸化物、フッ化物もしくは酸フッ化物、またはイットリウムアルミニウム複合酸化物を主成分とするセラミックスからなるガスノズルであって、前記供給孔を形成する内周面の算術平均粗さRaの最大値が0.01μm~0.14μmである。 |
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