A STAIN-RESISTANT POLYAMIDE COMPOSITION

Present application disclosed a stain-resistant polyamide composition comprising, a) 55-80 wt.% of semi-crystalline semi-aromatic polyamide; b) 5-15 wt.% of aliphatic polyamide; c) 15-30 wt.% of amorphous semi-aromatic polyamide; wherein the weight percentages of a), b) and c) are relative to the total weight of a), b) and c) and the sum of the weight percentages of a), b) and c) is 100 wt.%; and wherein the semi-crystalline semi-aromatic polyamide comprises repeat units derived from condensation of terephthalic acid and at least one aliphatic diamine having more than 8 and less than 12 carbon atoms. La présente invention concerne une composition de polyamide résistante aux taches comprenant a) 55 à 80 % en poids de polyamide semi-aromatique semi-cristallin ; b) 5 à 15 % en poids de polyamide aliphatique ; c) 15 à 30 % en poids de polyamide semi-aromatique amorphe ; les pourcentages en poids de a), b) et c) se rapportant au poids total de a), b) et c) et la somme des pourcentages en poids de a), b) et c) étant de 100 % en poids ; et le polyamide semi-aromatique semi-cristallin comprenant des unités de répétition dérivées de la condensation de l'acide téréphtalique et d'au moins une diamine aliphatique contenant plus de 8 et moins de 12 atomes de carbone.