EXTREME ULTRAVIOLET MASK WITH BACKSIDE COATING

Extreme ultraviolet (EUV) mask blanks, methods for their manufacture and production systems therefor are disclosed. The EUV mask blanks comprise a substrate having a first side and a second side; a backside coating layer comprising an alloy of tantalum and nickel on the first side of the substrate; a multilayer stack of reflective layers on the second side of the substrate, the multilayer stack of reflective layers including a plurality of reflective layers including reflective layer pairs; a capping layer on the multilayer stack of reflecting layers; and an absorber layer on the capping layer. L'invention concerne des ébauches de masque à ultraviolets extrêmes (EUV), leurs procédés de fabrication et des systèmes de production s'y rapportant. Les ébauches de masque EUV comprennent un substrat ayant un premier côté et un second côté ; une couche de revêtement arrière comprenant un alliage de tantale et de nickel sur le premier côté du substrat ; un empilement multicouche de couches réfléchissantes sur le second côté du substrat, l'empilement multicouche de couches réfléchissantes comprenant une pluralité de couches réfléchissantes comprenant des paires de couches réfléchissantes ; une couche de recouvrement sur l'empilement multicouche de couches réfléchissantes ; et une couche absorbante sur la couche de recouvrement.