PRODUCTION METHOD FOR 2-CYANOACRYLATE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD FOR PHOTOCURABLE ADHESIVE COMPOSITION

This production method for a 2-cyanoacrylate compound includes: a depolymerization step for depolymerizing a 2-cyanoacrylate polycondensate that is a condensate of a cyanoacetic acid ester compound and a formaldehyde compound in the presence of a polymerization inhibitor and under heat and reduced pressure to obtain a crude 2-cyanoacrylate monomer; and a distillation purification step for distilling the crude 2-cyanoacrylate monomer to obtain a purified 2-cyanoacrylate monomer. The polymerization inhibitor used in the depolymerization step is a compound that does not have a hydroquinone structure. Le procédé de fabrication de composé 2-cyanoacrylate de l'invention inclut : une étape de dépolymérisation au cours de laquelle un polycondensat de 2-cyanoacrylate consistant en un condensat d'un composé d'ester d'acide cyanacétique et d'un composé formaldéhyde est soumis à une dépolymérisation en présence d'un inhibiteur de polymérisation et dans des conditions de chauffage et de réduction de pression, afin d'obtenir un monomère de 2-cyanoacrylate brut; et une étape de purification par distillation au cours de laquelle le monomère de 2-cyanoacrylate brut est distillé, afin d'obtenir un monomère de 2-cyanoacrylate pur. Ledit inhibiteur de polymérisation mis en œuvre lors de ladite étape de dépolymérisation, consiste en un composé ne comprenant pas de structure hydroquinone. 本発明の２－シアノアクリレート化合物の製造方法は、シアノ酢酸エステル化合物とホルムアルデヒド化合物との縮合体である２－シアノアクリレート重縮合体を、重合禁止剤の存在下、かつ加熱減圧条件下で解重合し、粗製２－シアノアクリレートモノマーを得る解重合工程と、前記粗製２－シアノアクリレートモノマーを蒸留して、精製２－シアノアクリレートモノマーを得る蒸留精製工程と、を含み、前記解重合工程において用いられる前記重合禁止剤が、ハイドロキノン構造を有しない化合物である。