METHODS AND APPARATUS FOR INSPECTION OF A STRUCTURE AND ASSOCIATED APPARATUSES

A method for determining an overlay metric is disclosed comprising obtaining angle resolved distribution spectrum data relating to a measurement of the target structure comprising a symmetrical component. An overlay dependent contour of a feature of said target structure is determined from said angle resolved distribution spectrum data, from which an overlay metric is determined. The method comprises exposing an exposed feature onto a masked layer comprising a mask which defines masked and unmasked areas of the layer, such that a first portion of the exposed feature is exposed on a masked area of said layer and a second portion of the exposed feature is exposed on a non-masked area of said layer, the size of the first portion with respect to the second portion being overlay dependent; and performing an etch step to define an etched feature, the etched feature corresponding to said second portion of the exposed feature. L'invention concerne un procédé de détermination d'une métrique de recouvrement comprenant l'obtention de données de spectre de distribution à résolution angulaire relatives à une mesure de la structure cible comprenant un composant symétrique. Un contour dépendant du recouvrement d'une caractéristique de ladite structure cible est déterminé à partir desdites données de spectre de distribution à résolution angulaire, à partir desquelles une métrique de recouvrement est déterminée. Le procédé consiste à exposer une caractéristique exposée sur une couche masquée comprenant un masque qui définit des zones masquées et non masquées de la couche, de telle sorte qu'une première partie de la caractéristique exposée est exposée sur une zone masquée de ladite couche et qu'une seconde partie de la caractéristique exposée est exposée sur une zone non masquée de ladite couche, la taille de la première partie par rapport à la seconde partie dépendant du recouvrement ; et à effectuer une étape de gravure pour définir une caractéristique gravée, la caractéristique gravée correspondant à ladite seconde partie de la caractéristique exposée.