PHOTOMASK CLEANING

Generally, examples described herein relate to methods and apparatus for photomask processing. In an example, a photomask is obtained that is protected by a pellicle during a photolithography process. The photomask is cleaned by performing an etch process on the photomask using an etchant that is selective to etch a first material of the pellicle at a greater rate than each material of the photomask. In some examples, the pellicle includes a rigid material through which radiation is transmitted during the photolithography process. Des exemples de la présente invention concernent généralement des procédés et des appareils servant au traitement de photomasques. Dans un exemple, un photomasque protégé par une pellicule pendant un processus de photolithographie est obtenu. Le photomasque est nettoyé grâce à un procédé de gravure effectué sur le photomasque à l'aide d'un agent de gravure qui est sélectif pour graver un premier matériau de la pellicule à une vitesse supérieure à celle employée pour chaque matériau du photomasque. Dans certains exemples, la pellicule comprend un matériau rigide à travers lequel un rayonnement est transmis pendant le processus de photolithographie.