A METHOD AND DEVICE FOR PLASMA-CHEMICAL GAS/GAS MIXTURE CONVERSION
The present disclosure is related to the field of chemistry, specifically it proposes a method for plasma-chemical conversion of gas or gas mixture using a pulsed electrical discharge. The technical effect of the present disclosure is increased efficiency of the process of converting gas/gas mixtur...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The present disclosure is related to the field of chemistry, specifically it proposes a method for plasma-chemical conversion of gas or gas mixture using a pulsed electrical discharge. The technical effect of the present disclosure is increased efficiency of the process of converting gas/gas mixture into the desired products by stimulating forward reactions and minimizing reverse reactions. This is achieved by converting the gas/gas mixture using a pulsed electrical discharge in the form of a hot plasma channels forming between the electrodes in the moving flow of gas/gas mixture, wherein the ratio of the flow velocity to the average discharge current falls within the following range: 250 J/(m3*A2) < ρ*V2/I2 < 4,000 J/(m3*A2), where p is the density of the gas/gas mixture in the reaction chamber (kg/m3), V is the flow velocity of the gas/gas mixture in the reaction chamber (m/s), and I is the average current of the pulsed electrical discharge (A). A method is proposed for gas/gas mixture conversion and a device for the implementation of the method. 2 independent claims, 9 dependent claims, 3 figures.
La présente invention se rapporte au domaine de la chimie, en particulier concerne un procédé de conversion plasma-chimique de gaz ou de mélange de gaz à l'aide d'une décharge électrique pulsée. L'effet technique de la présente invention est une efficacité accrue du procédé de conversion de mélange gaz/gaz en produits souhaités par stimulation des réactions directes et réduction au minimum des réactions inverses. À cet effet, le mélange gaz/gaz est converti à l'aide d'une décharge électrique pulsée sous la forme de canaux de plasma chaud formant entre les électrodes dans le flux de gaz/gaz en mouvement, le rapport de la vitesse d'écoulement au courant de décharge moyen tombant dans la plage suivante : J/(m3*A2) < ρ*V2/I2 < 4,000 J/(m3*A2), où p est la densité du mélange gaz/gaz dans la chambre de réaction (kg/m3), V est la vitesse d'écoulement du mélange gaz/gaz dans la chambre de réaction (m/s), et I est le courant moyen de la décharge électrique pulsée (A). L'invention concerne un procédé de conversion de mélange gaz/gaz et un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé. 2%%%Revendications indépendantes 9%%%Revendications dépendantes 3%%%Figures |
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