CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM
A control system for this charged particle beam system obtains a first factor by performing a multiresolution analysis using a wavelet transformation or a discrete wavelet transformation on at least a part of an image or a signal obtained by a charged particle beam device. The control system obtains...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | A control system for this charged particle beam system obtains a first factor by performing a multiresolution analysis using a wavelet transformation or a discrete wavelet transformation on at least a part of an image or a signal obtained by a charged particle beam device. The control system obtains a second factor by performing any of maximum value calculation, numerical calculation corresponding to a designated order among the orders of magnitude, fitting to a histogram, average value calculation, and summation calculation on at least a part of the first factor or the absolute value of the first factor.
L'invention concerne un système de commande pour un système à faisceau de particules chargées qui obtient un premier facteur par réalisation d'une analyse multirésolution à l'aide d'une transformation en ondelettes ou d'une transformation en ondelettes discrètes sur au moins une partie d'une image ou d'un signal obtenu par un dispositif à faisceau de particules chargées. Le système de commande obtient un second facteur en effectuant l'un quelconque parmi un calcul de valeur maximale, un calcul numérique correspondant à un ordre désigné parmi les ordres de grandeur, un ajustement à un histogramme, un calcul de valeur moyenne et un calcul de sommation sur au moins une partie du premier facteur ou de la valeur absolue du premier facteur.
荷電粒子線システムの制御システムは、荷電粒子線装置によって取得された像または信号の少なくとも一部に対して、ウェーブレット変換または離散ウェーブレット変換による多重解像度解析を行うことによって第1の係数を求める。制御システムは、第1の係数または第1の係数の絶対値の少なくとも一部に対して、最大値の計算、大きさに関する順序の中で指定された順位に対応する数値の計算、ヒストグラムに対するフィッティング、平均値の計算、または総和の計算のうちのいずれかを行うことで第2の係数を求める。 |
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