INTERFEROMETER WITH PIXELATED PHASE SHIFT MASK

An interferometer uses a phase shift mask that includes an array of pixels that are aligned with a corresponding array of pixels of a detector. Each pixel in the phase shift mask is adapted to produce one of a number of predetermined phase shifts between a test beam and a reference beam. For example, the pixels may be linear polarizers or phase delay elements having one of the number of polarizer orientations or phase delays to produce the predetermined phase shifts between the test beam and the reference beam. The pixels in the phase shift mask are arranged in the array to include each of the predetermined phase shifts in repeating pixel groups in rows that are one column wide, columns that are one row high, or blocks of multiple rows and columns. L'invention concerne un interféromètre utilisant un masque de déphasage qui comprend un réseau de pixels alignés avec un réseau correspondant de pixels d'un détecteur. Chaque pixel dans le masque de déphasage est conçu pour produire un déphasage prédéterminé parmi un nombre de déphasages prédéterminés entre un faisceau test et un faisceau de référence. Par exemple, les pixels peuvent être des polariseurs linéaires ou des éléments de retard de phase disposant d'une des différentes orientations du polariseur ou des retards de phase pour produire les déphasages prédéterminés entre le faisceau test et le faisceau de référence. Les pixels dans le masque de déphasage sont agencés dans le réseau pour inclure chacun des déphasages prédéterminés dans des groupes de pixels répétés qui sont des rangées d'une largeur de colonne, des colonnes d'une hauteur d'une rangée ou des blocs de multiples rangées et colonnes.