METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE TEMPERATURE OF A SEMICONDUCTOR WAFER

A semiconductor wafer mass metrology method comprising: controlling the temperature of a semiconductor waferby: detecting information relating to the temperature of the semiconductor wafer; and controlling cooling or heating of the semiconductor wafer based on the detected information relating to the temperature of the semiconductor wafer; wherein controlling the cooling or heating of the semiconductor wafer comprises controlling a duration of the cooling or heating of the semiconductor wafer; and subsequently loading the semiconductor wafer onto a measurement area of a semiconductor wafer mass metrology apparatus. L'invention concerne un procédé de métrologie de masse de plaquette de semi-conducteur comprenant : la commande de la température d'une plaquette de semi-conducteur, la détection d'informations relatives à la température de la plaquette de semi-conducteur ; et la commande du refroidissement ou du chauffage de la plaquette de semi-conducteur sur la base des informations détectées concernant sa température ; la commande du refroidissement ou du chauffage de la plaquette de semi-conducteur comprenant la commande d'une durée de refroidissement ou de chauffage de la plaquette de semi-conducteur ; et ensuite le chargement de la plaquette de semi-conducteur sur une zone de mesure d'un appareil de métrologie de masse de plaquette de semi-conducteur.