ASSEMBLY OF AN OPTICAL SYSTEM, MORE PARTICULARLY IN A PROJECTION MICROLITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING SUCH AN OPTICAL SYSTEM
Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems. Gemäß einem Aspekt weist eine erfindungsgemäße Baugruppe eine Spiegelanordnung aus einer Mehrzah...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems. Gemäß einem Aspekt weist eine erfindungsgemäße Baugruppe eine Spiegelanordnung aus einer Mehrzahl von Spiegelelementen (101, 102, 103,... ) und eine Heizvorrichtung zum Einbringen einer Heizleistung in die Spiegelanordnung auf, wobei diese Heizleistung über die Spiegelanordnung hinweg lokal variabel einstellbar ist; wobei die Spiegelelemente (101, 102, 103,...) auf einem gemeinsamen Träger (110) angeordnet sind, wobei die Baugruppe ferner eine Wärmesenke (140) aufweist, und wobei zwischen dem Träger (110) und der Wärmesenke (140) ein Abschnitt (145) von erhöhtem thermischem Widerstand vorgesehen ist.
The invention relates to an assembly of an optical system, more particularly in a projection microlithography system, and to a method for operating such an optical system. According to one aspect, an assembly according to the invention has a mirror arrangement consisting of a plurality of mirror elements (101, 102, 103, ... ) and a heating device for introducing a heating power into the mirror arrangement, wherein said heating power can be set in a locally variable manner across the mirror arrangement; wherein the mirror elements (101, 102, 103, ...) are arranged on a common carrier (110), wherein the assembly further has a heat sink (140), and wherein a section (145) having higher thermal resistance is provided between the carrier (110) and the heat sink (140).
L'invention concerne un ensemble d'un système optique, en particulier dans un système d'exposition par projection microlithographique, et un procédé de fonctionnement d'un tel système optique. Selon un aspect, un ensemble selon l'invention comprend un agencement de miroirs constitué d'une pluralité d'éléments de miroir (101, 102, 103, ... ) et un dispositif de chauffage pour introduire une puissance de chauffage dans l'agencement de miroirs, ladite puissance de chauffage étant localement réglable de manière variable à travers l'agencement de miroir ; les éléments de miroir (101, 102, 103, ...) étant disposés sur un support commun (110), l'ensemble comprenant en outre un dissipateur de chaleur (140), et une partie (145) de résistance thermique accrue étant prévue entre le support (110) et le dissipateur de chaleur (140). |
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