FILM DEPOSITION DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD

A film deposition device which deposits a prescribed film on a substrate via PEALD, and has a treatment vessel for housing the substrate in an airtight manner and a placement stand on which the substrate is placed inside the treatment vessel, wherein: the treatment vessel has an exhaust port through which the treatment vessel is evacuated, an exhaust channel for connecting the exhaust port and the treatment region, which is located above the placement stand inside the treatment vessel, and a partition for separating the exhaust port side and the treatment region side from one another in the exhaust channel; the partition has a passage which connects the exhaust port side and the treatment region side to one another; and the partition is formed in a manner such that the exhaust port side is not visible from the treatment region side when seen in a planar view in the direction in which the exhaust channel extends. L'invention concerne un dispositif de dépôt de film qui dépose un film prescrit sur un substrat par PEALD, et a un récipient de traitement pour loger le substrat de manière étanche à l'air et un support de placement sur lequel le substrat est placé à l'intérieur du récipient de traitement, le récipient de traitement ayant un orifice d'échappement à travers lequel le récipient de traitement est évacué, un canal d'échappement pour relier l'orifice d'échappement et la région de traitement, qui est située au-dessus du support de placement à l'intérieur du récipient de traitement, et une cloison pour séparer le côté orifice d'échappement et le côté région de traitement l'un de l'autre dans le canal d'échappement ; la cloison a un passage qui relie le côté orifice d'échappement et le côté région de traitement l'un à l'autre ; et la cloison est formée de telle sorte que le côté de l'orifice d'échappement n'est pas visible depuis le côté de la région de traitement lorsqu'il est vu dans une vue en plan dans la direction dans laquelle s'étend le canal d'échappement. ＰＥＡＬＤにより基板に所定の膜を成膜する成膜装置は、基板を気密に収容する処理容器と、前記処理容器内で基板を載置する載置台と、を有し、前記処理容器は、当該処理容器内を排気するための排気口と、当該処理容器内において前記載置台の上方に位置する処理領域と前記排気口とを接続する排気路と、前記排気路内において前記処理領域側と前記排気口側とを隔てる隔壁部とを有し、前記隔壁部は、前記処理領域側と前記排気口側とを連通させる流路を有し、前記隔壁部は、前記排気路の延在方向の平面視において、前記処理領域側から前記排気口側が見えないように形成されている。