TIME-DOMAIN OPTICAL METROLOGY AND INSPECTION OF SEMICONDUCTOR DEVICES

Semiconductor device metrology including creating a time-domain representation of wavelength-domain measurement data of light reflected by a patterned structure of a semiconductor device, selecting an earlier-in-time portion of the time-domain representation that excludes a later-in-time portion of...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HAINICK, Yair, SHIRMAN, Yuri, SCHLEIFER, Elad, AMA, Michael, BARAK, Gilad, SHAFIR, Dror, LINDENFELD, Ze'ev, FERBER, Smadar, LEVANT, Boris
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Semiconductor device metrology including creating a time-domain representation of wavelength-domain measurement data of light reflected by a patterned structure of a semiconductor device, selecting an earlier-in-time portion of the time-domain representation that excludes a later-in-time portion of the time-domain representation, and determining one or more measurements of one or more parameters of interest of the patterned structure by performing model-based processing using the earlier-in-time portion of the time-domain representation. La métrologie de dispositifs à semi-conducteurs comprend la création d'une représentation dans le domaine temporel de données de mesure dans le domaine des longueurs d'onde de la lumière réfléchie par une structure à motifs d'un dispositif à semi-conducteur, la sélection d'une partie antérieure dans le temps de la représentation dans le domaine temporel qui exclut une partie ultérieure dans le temps de la représentation dans le domaine temporel, et la détermination d'une ou de plusieurs mesures d'un ou plusieurs paramètres d'intérêt de la structure à motifs par mise en oeuvre d'un traitement basé sur un modèle à l'aide de la partie antérieure dans le temps de la représentation dans le domaine temporel.