METHOD FOR ELIMINATING MICROORGANISMS PRESENT IN AND/OR AT THE SURFACE OF A MATERIAL TO BE DECONTAMINATED

The present invention concerns a method for eliminating microorganisms present in and/or at the surface of a material to be decontaminated comprising a step of irradiating said material to be decontaminated with radiation consisting of at least two light beams α1 and α2 directed onto said material,...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CAYOT, Philippe, GRANGETEAU, Cédric, BENEY, Laurent, DUPONT, Sébastien
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention concerns a method for eliminating microorganisms present in and/or at the surface of a material to be decontaminated comprising a step of irradiating said material to be decontaminated with radiation consisting of at least two light beams α1 and α2 directed onto said material, the two light beams α1 and α2 respectively having a wavelength λ1 and λ2 of between 380 and 420 nm. La présente invention concerne un procédé d'élimination de microorganismes présents dans et/ou à la surface d'un matériau à décontaminer comprenant une étape d'irradiation dudit matériau à décontaminer par un rayonnement constitué d'au moins deux faisceaux lumineux α1 et α2 dirigés sur ledit matériau, les deux faisceaux lumineux α1 et α2 ayant respectivement une longueur d'onde λ1 et λ2 comprise entre 380 et 420 nm.