ALUMINUM ALLOY MEMBER FOR FORMING FLUORIDE FILM AND ALUMINUM ALLOY MEMBER HAVING FLUORIDE FILM

Provided is an aluminum alloy member that is for forming a fluoride film, and that has excellent smoothness without occurrence of a black dot-shaped bulged portion, and excellent corrosion resistance against a corrosive gas, plasma, etc. This aluminum alloy member 1 for forming a fluoride film for a semiconductor production device contains 0.3-0.8 mass% of Si, 0.5-5.0 mass% of Mg, and 0.05-0.5 mass% of Fe, the balance being Al and incidental impurities, wherein the Cu content thereof is 0.5 mass% or less, the Mn content thereof is 0.30 mass% or less, the Cr content thereof is 0.30 mass% or less, and the relationship formula log10Y < -0.320D + 4.60 is satisfied, where "D" (μm) represents the average major axis length of Fe-based crystallized products in the aluminum alloy member, and "Y" (μm) represents the average crystal grain size in the aluminum alloy member. A fluoride film 2 is formed on at least a portion of the surface of the aluminum alloy member 1 for forming a fluoride film. L'invention concerne un élément en alliage d'aluminium qui est destiné à la formation d'un film de fluorure, et qui présente une excellente régularité sans apparition d'une partie bombée en forme de point noir, et une excellente résistance à la corrosion contre un gaz corrosif, un plasma, etc. Cet élément d'alliage d'aluminium 1 destiné à la formation d'un film de fluorure pour un dispositif de production de semiconducteur contient de 0,3 à 0,8 % en masse de Si, de 0,5 à 5,0 % en masse de Mg, et de 0,05 à 0,5 % en masse de Fe, le reste étant de l'Al et des impuretés accidentelles, sa teneur en Cu étant inférieure ou égale à 0,5 % en masse, sa teneur en Mn étant inférieure ou égale à 0,30 % en masse, sa teneur en Cr étant inférieure ou égale à 0,30 % en masse, et la formule de relation log10Y < -0,320 D + 4,60 étant satisfaite, "D" (µm) représentant la longueur moyenne de l'axe majeur des produits cristallisés à base de Fe dans l'élément en alliage d'aluminium, et "Y" (μm) représentant la taille moyenne des grains cristallins dans l'élément en alliage d'aluminium. Un film de fluorure 2 est formé sur au moins une partie de la surface de l'élément en alliage d'aluminium 1 pour former un film de fluorure. 黒色の点状隆起部の発生がなく平滑性に優れると共に、腐食性ガスやプラズマ等に対して優れた耐食性を備えたフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材を提供する。 半導体製造装置用のフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材１は、Ｓｉ：０．３質量％～０．８質量％、Ｍｇ：０．５質量％～５．０質量％、Ｆｅ：０．０５質量％～０．５質量％を含有し、Ｃｕの含有率が０．５質量％以下であり、Ｍｎの含有率が０．３０質量％以下であり、Ｃｒの含有率が０．３０質量％以下であり、残部がＡｌ及び不可避不純物からなり、アルミニウム合金部材中のＦｅ系晶出物の平均長径を「Ｄ」（μｍ）とし、前記アルミ