REAL-TIME AUTOFOCUS FOR MASKLESS LITHOGRAPHY ON SUBSTRATES

Embodiments of the systems and methods discussed herein autofocus an imaging apparatus by pre-processing image data received via channels of the imaging system that include laser beams and sensors configured to receive image data when laser beams are applied across a substrate in a pixel-wise application across a substrate. The substrate can comprise both a photoresist and metallic material, and the images as-received by the sensors include noise from the metallic material. During pre-processing of the image data, a percentage of noise to remove from the image data is determined, and the image data is filtered. A centroid of the substrate is calculated for each channel and a focus deviation for the exposure is determined. The centroids can be combined using one or more filtering mechanisms, and the imaging system can be autofocused in an exposure position by moving the stage and/or the exposure source in one or more directions. Des modes de réalisation de l'invention concernent des systèmes et des procédés de mise au point automatique d'un appareil d'imagerie par prétraitement de données d'image reçues par l'intermédiaire de canaux du système d'imagerie qui comprennent des faisceaux laser et des capteurs configurés pour recevoir des données d'image lorsque des faisceaux laser sont appliqués à travers un substrat dans une application par pixel sur un substrat. Le substrat peut comprendre une résine photosensible et un matériau métallique, et les images telles que reçues par les capteurs comprennent du bruit provenant du matériau métallique. Pendant le prétraitement des données d'image, un pourcentage de bruit à éliminer des données d'image est déterminé, et les données d'image sont filtrées. Il est calculé un centroïde du substrat pour chaque canal et il est déterminé un écart de focalisation pour l'exposition. Les centroïdes peuvent être combinés à l'aide d'un ou de plusieurs mécanismes de filtrage, et le système d'imagerie peut être autofocalisé dans une position d'exposition par déplacement de l'étage et/ou de la source d'exposition dans une ou plusieurs directions.