A PHOTORESIST COMPOSITION, A METHOD FOR MANUFACTURING A PHOTORESIST COATING, ETCHED PHOTORESIST COATING, AND ETCHED SI CONTAINING LAYER(S), AND MANUFACTURING A DEVICE USING THEREOF

The present invention relates to a photoresist composition comprising a polymer(s), a photo acid generator(s), a (C) compound(s) comprising unit EO and unit PO, and a solvent(s). And the present invention relates to a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and et...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KAWATO, Shunji, HAMA, Yusuke, SAO, Takayuki, YANAGITA, Hiroshi, HIRAYAMA, Taku
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The present invention relates to a photoresist composition comprising a polymer(s), a photo acid generator(s), a (C) compound(s) comprising unit EO and unit PO, and a solvent(s). And the present invention relates to a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and etched Si containing layer(s). And the present invention relates to a method for a manufacturing a device. La présente invention concerne une composition de résine photosensible comprenant un ou plusieurs polymères, un ou plusieurs générateurs d'acide photo, un ou plusieurs composés comprenant l'unité EO et l'unité PO, et un solvant ou plusieurs solvants. La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un revêtement de résine photosensible, d'un revêtement de résine photosensible gravée, et d'une ou plusieurs couches contenant du si gravée. La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un dispositif.