CLEANING SYSTEM FOR REMOVING DEPOSITS FROM PUMP IN AN EXHAUST OF A SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

An exhaust system for a substrate processing system includes a radical generator configured to receive a gas mixture including halogen species and to generate halogen radicals, a first pump to pump exhaust gas from an exhaust outlet of a processing chamber, and a first valve configured to selectivel...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BIRRU, Krishna, KHO, Leonard, LIU, Gang, CHANDRASHEKAR, Anand, HSU, Gishun
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:An exhaust system for a substrate processing system includes a radical generator configured to receive a gas mixture including halogen species and to generate halogen radicals, a first pump to pump exhaust gas from an exhaust outlet of a processing chamber, and a first valve configured to selectively fluidly connect an outlet of the radical generator to the first pump downstream from the outlet of the processing chamber. L'invention concerne un système d'évacuation destiné à un système de traitement de substrat comprenant un générateur de radicaux conçu pour recevoir un mélange gazeux comprenant des espèces halogènes et pour générer des radicaux halogènes, une première pompe, permettant de pomper des gaz d'évacuation à partir d'une sortie d'évacuation d'une chambre de traitement, et une première vanne, conçue pour relier en communication fluidique et sélectivement une sortie du générateur de radicaux à la première pompe, en aval de la sortie de la chambre de traitement.