NANO-PATTERNED SURFACES FOR MICROFLUIDIC DEVICES AND METHODS FOR MANUFACTURING THE SAME

A method of making a microfluidic device (200, 201, 300) can include depositing a layer of photoresist onto a first substrate (210, 270, 310), selectively removing the photoresist to expose portions of the first substrate (210, 270, 310), etching the exposed portions of the first substrate (210, 270, 310) to form an array of nano-wells (240, 340), coating each nano-well (240, 340) with metal oxide, and coating the metal oxide on each nano-well (240, 340) with a first materialto increase binding of DNA, proteins, and polynucleotides to the metal oxide. A layer of a second material can be deposited on interstitial areas between the nano-wells (240, 340) to inhibit binding of DNA, proteins, and polynucleotides to the interstitial areas. A second substrate (220, 320) can be bonded to the first substrate (210, 270, 310) to enclose the array of nano-wells (240, 340) in a cavity. Un procédé de fabrication d'un dispositif microfluidique (200, 201, 300) peut comprendre le dépôt d'une couche de résine photosensible sur un premier substrat (210, 270, 310), l'élimination sélective de la résine photosensible pour exposer des parties du premier substrat (210, 270, 310), la gravure des parties exposées du premier substrat (210, 270, 310) pour former un réseau de nano-puits (240, 340), enrober chaque nano-puits (240, 340) avec de l'oxyde métallique, et enrober l'oxyde métallique sur chaque nano-puits (240, 340) avec un premier matériau pour augmenter la liaison de l'ADN, des protéines et des polynucléotides à l'oxyde métallique. Une couche d'un second matériau peut être déposée sur des zones interstitielles entre les nano-puits (240, 340) pour inhiber la liaison de l'ADN, des protéines et des polynucléotides aux zones interstitielles. Un second substrat (220, 320) peut être lié au premier substrat (210, 270, 310) pour enfermer le réseau de nano-puits (240, 340) dans une cavité.