HIGH FLOW MULTI-WAY PISTON VALVE FOR DEPOSITION SYSTEMS

A valve assembly used with a process chamber for depositing a film on a wafer. A valve body surrounds a bore and includes an inlet, a first outlet and a second outlet, at least one of them exiting into the process chamber. A piston includes a first section having a first flow path, and a second section having a second flow path. A linear motion actuator is adapted to couple with the piston and controls linear movement of the piston through the bore between a first position and a second position. In the first position, the first section of the piston is aligned with the inlet such that fluid flows to the first outlet via the first flow path. In the second position, the second section of the piston is aligned with the inlet such that fluid flows to the second outlet via the second flow path. L'invention concerne un ensemble vanne utilisé avec une chambre de traitement pour déposer un film sur une tranche. Un corps de vanne entoure un alésage et comprend une entrée, une première sortie et une seconde sortie, au moins l'une d'entre celles-ci sortant dans la chambre de traitement. Un piston comprend une première section ayant un premier trajet d'écoulement, et une seconde section ayant un second trajet d'écoulement. Un actionneur de mouvement linéaire est conçu pour s'accoupler avec le piston et commande le mouvement linéaire du piston à travers l'alésage entre une première position et une seconde position. Dans la première position, la première section du piston est alignée avec l'entrée de telle sorte que le fluide s'écoule vers la première sortie par l'intermédiaire du premier trajet d'écoulement. Dans la seconde position, la seconde section du piston est alignée avec l'entrée de telle sorte que le fluide s'écoule vers la seconde sortie par l'intermédiaire du second trajet d'écoulement.