PROCESS, REACTOR AND SYSTEM FOR THE CUSTOMIZATION OF AUTONOMOUS NANOSTRUCTURES USING MICROWAVE PLASMA

The invention relates to a process, a reactor and a system for the customization of autonomous nanostructures, using a microwave-excited plasma environment in which the microwaves are sustained by surface waves (SW). Two distinct streams are injected into two distinct zones of a plasma reactor, the first stream (FS) being constituted by carrier gases and by the nanostructures to be customized and the second stream (SS) by a mixture of inert gases, at least one dopant component precursor (DCP) and/or at least one type of microparticles (MP). The FS is injected into part (7) of the reactor and the SS in part (6). The SS is exposed to the electrical field of a surface wave excited by microwave power, creating a hot plasma (8). The two streams join together in zones (4) and (5), where the nanostructures are customized through their interaction with the components coming from the SS. L'invention concerne un procédé, un réacteur et un système de personnalisation de nanostructures autonomes, utilisant un environnement de plasma excité par micro-ondes entretenues par une onde de surface (OS). Deux écoulements distincts sont injectés dans deux zones distinctes d'un réacteur à plasma, le premier écoulement (PE) étant constitué par des gaz porteurs et par les nanostructures à personnaliser, le second écoulement (SE) par un mélange de gaz inertes, au moins un précurseur du composant dopant (PCD) et/ou au moins un type de microparticules (MP). Le PE est injecté dans la partie (7) du réacteur et le SE dans la partie (6). Le SE est soumis au champ électrique d'une onde de surface excitée par utilisation de puissance micro-ondes, de manière à créer un plasma chaud (8). Les deux écoulements sont s'unissent dans les zones (4) et (5), où se produit la personnalisation des nanostructures par interaction de ces dernières avec les composants provenant du SE. A invenção refere-se a um processo, reator e sistema para a customização de nanoestruturas autónomas, utilizando um ambiente de plasma excitado por micro-ondas sustentadas por onda de superfície (os). Dois escoamentos distintos são injetados em duas zonas distintas de um reator de plasma, sendo o primeiro escoamento (PE) constituído por gases portadores e pelas nanoestruturas a customizar e o segundo escoamento (SE) por uma mistura de gases inertes, pelo menos um percursor do componente dopante (PCD) e/ou pelo menos um tipo de micropartículas (mp). O PE é injetado na parte (7) do reator e o SE na parte (6). O SE é submetido