SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM
In this solid-state imaging device, first charges are generated by at least two first photoelectric conversion elements during a first exposure period. At least two of the first charges are added together through floating diffusion. A first memory stores a first pixel signal based on the first charg...
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | In this solid-state imaging device, first charges are generated by at least two first photoelectric conversion elements during a first exposure period. At least two of the first charges are added together through floating diffusion. A first memory stores a first pixel signal based on the first charges. Second charges are generated by at least one second photoelectric conversion element during a second exposure period. At least a part of the second exposure period overlaps the first exposure period. The second charges are held in the floating diffusion. A second memory stores a second pixel signal based on the second charges.
La présente invention concerne un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs, dans lequel des premières charges sont générées par au moins deux premiers éléments de conversion photoélectrique pendant une première période d'exposition. Au moins deux des premières charges sont additionnées ensemble par diffusion flottante. Une première mémoire stocke un premier signal de pixel basé sur les premières charges. Des secondes charges sont générées par au moins un second élément de conversion photoélectrique pendant une seconde période d'exposition. Au moins une partie de la seconde période d'exposition chevauche la première période d'exposition. Les secondes charges sont maintenues lors de la diffusion flottante. Une seconde mémoire stocke un second signal de pixel basé sur les secondes charges.
固体撮像装置において、第1の露光期間に少なくとも2つの第1の光電変換素子で第1の電荷が生成される。少なくとも2つの前記第1の電荷は前記フローティングディフュージョンにおいて加算される。第1のメモリは、前記第1の電荷に基づく第1の画素信号を記憶する。第2の露光期間に少なくとも1つの第2の光電変換素子で第2の電荷が生成される。前記第2の露光期間の少なくとも一部は前記第1の露光期間と重なる。前記第2の電荷は前記フローティングディフュージョンに保持される。第2のメモリは、前記第2の電荷に基づく第2の画素信号を記憶する。 |
---|