DISCHARGE CHAMBERS AND IONIZATION DEVICES, METHODS AND SYSTEMS USING THEM

Certain configurations of plasma discharge chambers and plasma ionization sources comprising a plasma discharge chamber are described. In some examples, the discharge chamber comprises a conductive area and is configured to sustain a plasma discharge within the discharge chamber. In other examples,...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: COUSINS, Lisa, JAVAHERY, Gholamreza, SARRAFZADEH, Mehrnaz, JOLLIFFE, Charles
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Certain configurations of plasma discharge chambers and plasma ionization sources comprising a plasma discharge chamber are described. In some examples, the discharge chamber comprises a conductive area and is configured to sustain a plasma discharge within the discharge chamber. In other examples, the discharge chamber comprises at least one inlet configured to receive a plasma gas and at least one outlet configured to provide ionized analyte from the discharge chamber. Systems and methods using the discharge chambers are also described. La présente invention concerne certaines configurations de chambres de décharge de plasma et de sources d'ionisation de plasma comprenant une chambre de décharge de plasma. Dans certains exemples, la chambre de décharge comprend une zone conductrice et est configurée pour maintenir une décharge de plasma à l'intérieur de la chambre de décharge. Dans d'autres exemples, la chambre de décharge comprend au moins une entrée configurée pour recevoir un gaz plasma et au moins une sortie configurée pour fournir un analyte ionisé à partir de la chambre de décharge. L'invention porte également sur des systèmes et sur des procédés qui utilisent les chambres de décharge.