PRESSURE SKEW SYSTEM FOR CONTROLLING CENTER-TO-EDGE PRESSURE CHANGE

Embodiments described herein relate to a pressure skew system for controlling the center-to-edge pressure change in a chamber for depositing an advanced patterning film with improved overall uniformity. The pressure skew system includes pumping zones configured to be formed in a chamber, walls disposed in the pumping region. The chamber includes a processing region, a pumping region, and a pumping path connected to a pump to exhaust process gases from the pumping region. Each pumping zone corresponds to a space of the pumping region flanked by the walls. Supply conduits are connected to a corresponding pumping zone and a corresponding mass flow control device to control a flow rate of inert gas provided to the corresponding pumping zone to control a pressure in an area of the processing region. Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne un système d'obliquité de pression pour réguler le changement de pression de centre à bord dans une chambre pour déposer un film de formation de motif avancé doté d'une uniformité globale améliorée. Le système d'obliquité de pression comprend des zones de pompage conçues de façon à être formées dans une chambre, des parois étant disposées dans la région de pompage. La chambre comprend une région de traitement, une région de pompage et un trajet de pompage relié à une pompe de façon à évacuer les gaz de traitement de la région de pompage. Chaque zone de pompage correspond à un espace de la région de pompage encadrée par les parois. Des conduits d'alimentation sont reliés à une zone de pompage correspondante et à un dispositif de régulation de débit massique correspondant de façon à réguler un débit de gaz inerte fourni à la zone de pompage correspondante de façon à réguler une pression dans une aire de la région de traitement.