GAS-PULSING-BASED SHARED PRECURSOR DISTRIBUTION SYSTEM AND METHODS OF USE

Gas distribution apparatus to provide uniform flows of gases from a single source to multiple processing chambers are described. A regulator is positioned at an upstream end of a shared volume having a plurality of downstream ends. A flow controller is positioned at each downstream end of the shared...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BRASHEAR, Kevin, XU, Ming, BALUJA, Sanjeev, FERNANDEZ, Alexander, JOSEPHSON, Marcel E, OKADA, Ashley M, KOSHTI, Sushant Suresh, RICE, Michael, AUBUCHON, Joseph, LE, Kenneth
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gas distribution apparatus to provide uniform flows of gases from a single source to multiple processing chambers are described. A regulator is positioned at an upstream end of a shared volume having a plurality of downstream ends. A flow controller is positioned at each downstream end of the shared volume, the flow controller comprising an orifice and a fast pulsing valve. Methods of using the gas distribution apparatus and calibrating the flow controllers are also described. L'invention concerne un appareil de distribution de gaz pour fournir des flux uniformes de gaz d'une source unique à de multiples chambres de traitement. Un régulateur est positionné au niveau d'une extrémité amont d'un volume partagé ayant une pluralité d'extrémités aval. Un dispositif de commande d'écoulement est positionné à chaque extrémité aval du volume partagé, le dispositif de commande d'écoulement comprenant un orifice et une soupape à impulsion rapide. L'invention concerne également des procédés d'utilisation de l'appareil de distribution de gaz et d'étalonnage des dispositifs de commande d'écoulement.