METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING A PARTICLE FROM A PHOTOLITHOGRAPHIC MASK

The present application relates to a method (3300) for removing a particle (550, 2750, 3150) from a photolithographic mask (500), including the following steps: (a) positioning (3320) a manipulator (300, 1300, 2500, 3000, 3100), which is movable relative to the mask (500), in the vicinity of the particle (550, 2750, 3150) to be removed; (b) connecting (3330) the manipulator (300, 1300, 2500, 3000, 3100) to the particle (550, 2750, 3150) by depositing a connecting material (730, 1730, 2440) on the manipulator (300, 1300, 1400, 2300, 2500, 3000) and/or the particle (550, 2750, 3150) from the vapour phase; (c) removing (3340) the particle (550, 2750, 3150) by moving the manipulator (300, 1300, 2500, 3000, 3100) relative to the photolithographic mask (500); and (d) separating the removed particle (550, 2750, 3150) from the manipulator (300, 1300, 2500, 3000, 3100) by carrying out a particle- beam-induced etching process which removes at least a portion of the manipulator (300, 300, 2500, 3000, 3100). La présente invention concerne un procédé (3300) permettant d'éliminer une particule (550, 2750, 3150) d'un masque photolithographique (500) et comprenant les étapes suivantes : (a) positionner (3320) un manipulateur (300, 1300, 2500, 3000, 3100) qui est mobile par rapport au masque (500) à proximité de la particule (550, 2750, 3150) devant être éliminée ; (b) connecter (3330) le manipulateur (300, 1300, 2500, 3000, 3100) à la particule (550, 2750, 3150) grâce au dépôt d'un matériau de liaison (730, 1730, 2440) sur le manipulateur (300, 1300, 1400, 2300, 2500, 3000) et/ou sur la particule (550, 2750, 3150) à partir de la phase vapeur ; (c) éliminer (3340) la particule (550, 2750, 3150) en déplaçant le manipulateur (300, 1300, 2500, 3000, 3100) par rapport au masque photolithographique (500) ; et (d) séparer la particule éliminée (550, 2750, 3150) du manipulateur (300, 1300, 2500, 3000, 3100) en effectuant un processus de gravure qui est induit par un faisceau de particules et qui élimine au moins une partie du manipulateur (300, 300, 2500, 3000, 3100).