METHOD AND SYSTEM USING X-RAY PINHOLE CAMERA FOR IN-SITU MONITORING OF ELECTRON BEAM MANUFACTURING PROCESS

An additive manufacturing system includes a cabinet, an electron beam system, at least one imaging device, and a computing device. The cabinet is configured to enclose a component and defines a pinhole extending therethrough. The electron beam system is configured to generate an electron beam directed toward the component. Interactions between the component and the electron beam generate x-ray radiation. The at least one imaging device is configured to detect the x-ray radiation through the pinhole. The computing device is configured to image the component based on the x-ray radiation detected by the at least one imaging device. L'invention concerne un système de fabrication additive comprenant une armoire, un système de faisceau d'électrons, au moins un dispositif d'imagerie et un dispositif informatique. L'armoire est conçue pour renfermer un composant et définit un trou d'épingle s'étendant à travers elle. Le système de faisceau d'électrons est conçu pour générer un faisceau d'électrons dirigé vers le composant. Des interactions entre le composant et le faisceau d'électrons génèrent un rayonnement de rayons X. Le ou les dispositifs d'imagerie sont conçus pour détecter le rayonnement de rayons X à travers le trou d'épingle. Le dispositif informatique est configuré pour imager le composant sur la base du rayonnement de rayons X détecté par le ou les dispositifs d'imagerie.