WATER DISCHARGE DEVICE AND WATER DISCHARGE METHOD

A water discharge device (100) is characterized by comprising a water spray plate (1) that has a plurality of water spray holes (10), wherein: a water spray region (A) formed by the jet flow of water discharged from the water spray holes (10) of the water spray plate (1) includes a first region (S1)...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: MATSUMOTO Tetsurou, TAKEUCHI Tatsuyuki, MAKI Michitarou
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:A water discharge device (100) is characterized by comprising a water spray plate (1) that has a plurality of water spray holes (10), wherein: a water spray region (A) formed by the jet flow of water discharged from the water spray holes (10) of the water spray plate (1) includes a first region (S1) located on the outer circumferential side of the water spray region (A), and a second region (S2) located inward of the first region (S1); and the flow rate per unit area in the second region (S2) is smaller than the flow rate per unit area in the first region (S1). L'invention concerne un dispositif de débit d'eau (100) caractérisé en ce qu'il comprend une plaque de pulvérisation d'eau (1) qui présente une pluralité de trous de pulvérisation d'eau (10), une région de pulvérisation d'eau (A) formée par l'écoulement en jet de l'eau débitée à partir des trous de pulvérisation d'eau (10) de la plaque de pulvérisation d'eau (1) incluant une première région (S1) située sur le côté circonférentiel externe de la région de pulvérisation d'eau (A) et une seconde région (S2) située à l'intérieur de la première région (S1) ; et le débit par unité de surface dans la seconde région (S2) étant inférieur au débit par unité de surface dans la première région (S1). 吐水装置(100)は、複数の散水孔(10)を有する散水板(1)を備え、前記散水板(1)の前記散水孔(10)から吐水される噴流が形成する散水領域(A)は、前記散水領域(A)の外周側に位置する第一領域(S1)と、前記第一領域(S1)の内側に位置する第二領域(S2)と、を有し、前記第二領域(S2)における単位面積当たりの流量は、前記第一領域(S1)における単位面積当たりの流量と比べて小さいことを特徴とする。