POSITION MEASUREMENT SYSTEM, INTERFEROMETER SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

The invention provides a position measurement system for determining a position of an object, the position measurement system comprising a first interferometer and a second interferometer arranged to determine a distance of the object in a first direction when the object is in a first measurement area by emitting beams onto a target surface of the object. The position measurement system further comprises a third interferometer and a fourth interferometer arranged to determine a distance of the object in the first direction when the object is in a second measurement area by emitting beams onto the target surface of the object. An arrangement of relative positions in a second direction of beams spots impinging on the target surface from the beams emitted by the first and second interferometer is different from an arrangement of relative positions in the second direction of beams spots impinging on the target surface from the beams emitted by the third and fourth interferometer. L'invention concerne un système de mesure de position servant à déterminer une position d'un objet, le système de mesure de position comprenant un premier interféromètre et un second interféromètre disposés de façon à déterminer, par l'émission de faisceaux sur une surface cible de l'objet, une distance de l'objet dans une première direction lorsque l'objet se situe dans une première zone de mesure. Le système de mesure de position comprend en outre un troisième interféromètre et un quatrième interféromètre disposés de façon à déterminer, par l'émission de faisceaux sur la surface cible de l'objet, une distance de l'objet dans la première direction lorsque l'objet se situe dans une seconde zone de mesure. Un agencement de positions relatives dans une seconde direction de points de faisceaux tombant sur la surface cible et provenant des faisceaux émis par le premier et par le second interféromètre est différent d'un agencement de positions relatives dans la seconde direction de points de faisceaux tombant sur la surface cible et provenant des faisceaux émis par le troisième et par le quatrième interféromètre.