ISOLATED BACKSIDE HELIUM DELIVERY SYSTEM

Embodiments described herein provide a backside gas delivery assembly that prevents inert gas from forming parasitic plasma. The backside gas delivery assembly includes a first gas channel disposed in a stem of a substrate support assembly. The substrate support assembly includes a substrate support having a second gas channel extending from the first gas channel. The backside gas delivery assembly further includes a porous plug disposed within the first gas channel positioned at an interface of the stem and the substrate support, a gas source connected to the first gas channel configured to deliver an inert gas to a backside surface of a substrate disposed on an upper surface of the substrate support, and a gas tube in the first gas channel extending to the porous plug positioned at the interface of the stem and the substrate support. Des modes de réalisation de la présente invention concernent un ensemble de distribution de gaz arrière qui empêche un gaz inerte de former un plasma parasite. L'ensemble de distribution de gaz arrière comprend un premier canal de gaz disposé dans une tige d'un ensemble de support de substrat. L'ensemble de support de substrat comprend un support de substrat ayant un second canal de gaz s'étendant à partir du premier canal de gaz. L'ensemble de distribution de gaz arrière comprend en outre un bouchon poreux disposé à l'intérieur du premier canal de gaz positionné au niveau d'une interface de la tige et du support de substrat, une source de gaz reliée au premier canal de gaz servant à distribuer un gaz inerte à une surface arrière d'un substrat disposé sur une surface supérieure du support de substrat, et un tube à gaz dans le premier canal de gaz s'étendant jusqu'au bouchon poreux positionné au niveau de l'interface de la tige et du support de substrat.