A METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SUBSTRATE AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

A method and an apparatus for cleaning a substrate having at least one surface having a residue to be removed thereon is described. The method comprises: scanning at least an area of the surface having the residue thereon with laser light to thereby heat the surface and the residue; controlling the heating so that a part of the residue first liquefies such that the liquefied part of the residue starts flowing towards the solid part of the residue, thereby forming a meniscus with the solid part of the residue and accumulating in part on top of the solid part, the thus generated thicker layer of residue absorbing further heat to be decomposed or vaporized. L'invention concerne un procédé et un appareil de nettoyage d'un substrat ayant au moins une surface ayant un résidu à éliminer en son sein. Le procédé consiste : à balayer au moins une zone de la surface sur laquelle se trouve le résidu au moyen d'une lumière laser pour ainsi chauffer la surface et le résidu ; à commander le chauffage de telle sorte qu'une partie du résidu se liquéfie d'abord de telle sorte que la partie liquéfiée du résidu commence à s'écouler vers la partie solide du résidu, formant ainsi un ménisque avec la partie solide du résidu et accumulant en partie au-dessus de la partie solide, la couche de résidu plus épaisse ainsi générée absorbant davantage la chaleur à décomposer ou vaporiser.