PHASE SHIFT MASK AND ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD

A phase shift mask includes a transparent substrate (01) and light-shielding portions. The light-shielding portions include a first light-shielding portion (02), and over one side of it, a first compensating light-shielding portion (03), which has a first distance to the first light-shielding portion (02) and a first width smaller than a resolution of an exposing machine utilized for an exposure process using the phase shift mask. The light-shielding portions can further comprise a second compensating light-shielding portion (03), having a second distance to another side of the first light-shielding portion (02) and a second width smaller than the resolution of the exposing machine. The first distance and the second distance respectively allow the first and the second compensating light-shielding portion (03) to reduce an exposure at a region corresponding to two sides of the first light-shielding portion (02) during the exposure process. A method manufacturing an electronic component utilizing the phase shift mask is also provided. La présente invention concerne un masque à décalage de phase qui comprend un substrat transparent (01) et des parties de protection contre la lumière. Les parties de protection contre la lumière comprennent une première partie de protection contre la lumière (02) dotée sur un de ses côtés d'une première partie de compensation de protection contre la lumière (03), cette dernière ayant une première distance par rapport à la première partie de protection contre la lumière (02) et une première largeur inférieures à une résolution d'une machine d'exposition utilisée pour un processus d'exposition utilisant le masque à décalage de phase. Les parties de protection contre la lumière peuvent également comprendre une seconde partie de compensation de protection contre la lumière (03) ayant une seconde distance à un autre côté de la première partie de protection contre la lumière (02) et une seconde largeur inférieures à la résolution de la machine d'exposition. La première distance et la seconde distance permettent respectivement à la première et à la seconde partie de compensation de protection contre la lumière (03) de réduire une exposition au niveau d'une région correspondant à deux côtés de la première partie de protection contre la lumière (02) pendant le processus d'exposition. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un composant électronique utilisant le masque à décalage de phase.