COMPONENTS AND PROCESSES FOR MANAGING PLASMA PROCESS BYPRODUCT MATERIALS

Components and processes are disclosed herein for managing non-volatile and/or low- volatility byproduct materials that are generated within a plasma processing region of a plasma processing chamber during performance of various plasma-based processes on a substrate. The components include a top window structure, a liner structure, an edge ring structure, a focus ring structure, a ground ring structure, a substrate access port shield, an insert liner for a port opening in a chamber wall, and an exhaust baffle assembly for positioning within an exhaust channel connected to the chamber. One or more process-exposed surface(s) of the various components are subjected to a surface roughening/texturizing process to impart a surface roughness and/or engineered topography to the process-exposed surface that promotes adhesion and retention of plasma process byproduct materials. The various components with roughened/texturized process-exposed surface(s) are configured for use in lead zirconate titanate (PZT) film etching and/or platinum (Pt) film etching processes. Cette invention concerne des composants et des procédés de gestion de matériaux sous-produits non volatils et/ou à faible volatilité qui sont générés dans une région de traitement au plasma d'une chambre de traitement au plasma pendant l'exécution de divers traitements à base de plasma sur un substrat. Les composants comprennent une structure de fenêtre supérieure, une structure de revêtement, une structure de bague de bordure, une structure de bague de mise au point, une structure de bague de masse, un blindage d'orifice d'accès de substrat, un revêtement rapporté pour une ouverture d'orifice dans une paroi de chambre, et un ensemble déflecteur d'échappement destiné à être positionné à l'intérieur d'un canal d'échappement relié à la chambre. Une ou plusieurs surface(s) exposée(s) au traitement des divers composants est/sont soumise(s) à un traitement de rugosification/texturation de surface pour conférer une rugosité de surface et/ou une structure modifiée à la surface exposée au traitement qui favorise l'adhérence et la rétention de matériaux sous-produits issus d'un traitement au plasma. Les divers composants ayant une/des surface(s) exposée(s) au traitement rugueuses/texturées sont conçus pour être utilisés dans ses procédés de gravure de film de titano-zirconate de plomb (PZT) et/ou de film de platine (Pt).