POLISHING SHEET AND POLISHING METHOD

Object: To provide a polishing sheet capable of efficiently polishing a hard material such as a metal product so as to form a smooth surface with minimal unevenness. Solution: A polishing sheet including: a substrate; a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binding...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NAKAMURA, Yoko, TASAKA, Yoshihiko, NAGAFUCHI, Naohiro
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Object: To provide a polishing sheet capable of efficiently polishing a hard material such as a metal product so as to form a smooth surface with minimal unevenness. Solution: A polishing sheet including: a substrate; a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binding material; and an intermediate layer provided between the three-dimensional elements and the substrate so as to join the substrate and the three-dimensional elements, wherein a Young's modulus of the substrate at 25°C is not less than 3.0 × 109 Pa; and a Young's modulus of the intermediate layer at 25°C is not less than 1.0 × 107 Pa and not greater than 5.0 × 108 Pa. L'objectif de la présente invention est de proposer une feuille de polissage capable de polir efficacement un matériau dur tel qu'un produit métallique de façon à former une surface lisse présentant une irrégularité minimale. La solution selon la présente invention porte sur une feuille de polissage comprenant : un substrat ; une pluralité d'éléments tridimensionnels contenant des grains abrasifs et un matériau de liaison ; et une couche intermédiaire disposée entre les éléments tridimensionnels et le substrat de manière à relier le substrat et les éléments tridimensionnels, le module de Young du substrat à 25 °C étant supérieur ou égal à 3,0 x 109 Pa, et le module de Young de la couche intermédiaire à 25 °C étant supérieur ou égal à 1,0 x 107 Pa et inférieur ou égal à 5,0 x 108 Pa.