ION BEAM QUALITY CONTROL USING A MOVABLE MASS RESOLVING DEVICE

A system and method for optimizing a ribbon ion beam in a beam line implantation system is disclosed. The system includes a mass resolving apparatus having a resolving aperture, in which the resolving aperture may be moved in the X and Z directions. Additionally, a controller is able to manipulate the mass analyzer and quadrupole lenses so that the crossover point of desired ions can also be moved in the X and Z directions. By manipulating the crossover point and the resolving aperture, the parameters of the ribbon ion beam may be manipulated to achieve a desired result. Movement of the crossover point in the X direction may affect the mean horizontal angle of the beamlets, while movement of the crossover point in the Z direction may affect the horizontal angular spread and beam current. La présente invention concerne un système et un procédé pour optimiser un faisceau d'ion en ruban dans un système d'implémentation de ligne de faisceau. Le système comprend un appareil de résolution de masse ayant une ouverture de résolution, dans laquelle l'ouverture de résolution peut être déplacée dans les directions X et Z. De plus, un dispositif de commande peut manipuler l'analyseur de masse et les lentilles quadripolaires de telle sorte que le point de croisement d'ions souhaités peut également être déplacé dans les directions X et Z. En manipulant le point de croisement et l'ouverture de résolution, les paramètres du faisceau d'ions en ruban peuvent être manipulés pour obtenir un résultat souhaité. Le mouvement du point de croisement dans la direction X peut affecter l'angle horizontal moyen des petits faisceaux, tandis que le mouvement du point de croisement dans la direction Z peut affecter l'étalement angulaire horizontal et le courant de faisceau.