DEVELOPING DEVICE WITH MAGNET
In a developing device, a developer stirring-feeding member adjacent a developer carrier includes a conveyance spiral to rotate in order to stir developer contained in a storage and in order to feed a developer from a storage to the developer carrier. The conveyance spiral has a thickness that is le...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | In a developing device, a developer stirring-feeding member adjacent a developer carrier includes a conveyance spiral to rotate in order to stir developer contained in a storage and in order to feed a developer from a storage to the developer carrier. The conveyance spiral has a thickness that is less or equal to 2 mm and a pitch within a range of 5 mm to 8 mm, inclusive. A layer regulating member limits a thickness of a layer of the developer carried on the developer carrier. A magnet of the developer carrier has a layer regulating pole and a drawing-up pole. A peak magnetic force a in a normal direction to the layer regulating pole is greater than a peak magnetic force b in a normal direction to the drawing-up pole, and a sum of the peak magnetic force a and the peak magnetic force b is less or equal to 95 mT.
La présente invention concerne un élément d'alimentation et de brassage de révélateur qui se trouve dans un dispositif de développement, qui est adjacent à un transporteur de révélateur et qui comprend une spirale de transport qui tourne afin de brasser le révélateur contenu dans un contenant de stockage et afin d'alimenter le transporteur de révélateur en révélateur provenant d'un contenant de stockage. La spirale de transport a une épaisseur inférieure ou égale à 2 mm et un pas se situant entre 5 mm et 8 mm inclusivement. Un élément de régulation de couche limite l'épaisseur d'une couche du révélateur transportée par le transporteur de révélateur. Un aimant du transporteur de révélateur possède un pôle de régulation de couche et un pôle de préparation. Dans une direction normale par rapport au pôle de régulation de couche, une force magnétique maximale a est supérieure à une force magnétique maximale b dans une direction normale par rapport au pôle de préparation, et la somme de la force magnétique maximale a et de la force magnétique maximale b est inférieure ou égale à 95 mT. |
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